CRF AP PLASMA 噴射型AP等離子處理系統
型號：CRF-APO-R&D-XXXHD
品牌：CRF
CRF AP PLASMA 噴射型AP等離子處理系統可區分大氣型與真空型。主要應用於電子行業的手機殼印刷、塗覆、點膠等前處理，手機螢幕的表面處理、國防工業的航空航太電連接器表面清洗、通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
[產品特點]
- 採用PFC全橋數位式等離子電源，輸出功率穩定，抗干擾能力強，反應迅速
- 可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴，使用於不同場合，滿足各種不同產品和處理環境
- 設備尺寸小巧，方便攜帶和移動，節省客戶使用空間
- 可 In-Line 式安裝於客戶設備產線中，減少客戶投入成本；使用壽命長，保養維修成本低，便於客戶成本控制
| 規格 | |
| 等離子電源型號 | CRF-APO-R&D-XXXHD |
| 直噴式等離子噴槍型號 | 直噴式：DXX（Option：2 mm～6 mm） |
| 旋噴式等離子噴槍型號 | 旋噴式：RXX（Option：20 mm～80 mm） |
| 電 源 | 220 V / AC、50/60 Hz |
| 功 率 | 600 W / 25 KHz、選配 : 800/1000 W |
| 安全設計 | 短路警報、斷路警報、氣體壓力不足/過高警報、 錯誤警報、聲音警報、燈光警報 |
| 處理高度 | 3 - 20 mm |
| 處理寬幅 | 直噴式：1 - 10 mm、 旋噴式：20 mm～80 mm |
| 內部控制模式 | 數位控制 |
| 外部控制模式 | RS485/RS232、類比通訊口、啟停 |
| 氣體操作範圍 | 0.1 ~ 1 mpa、建議操作壓力：Compressed Air (0.4mpa) / N2 (0.2mpa) |
| 顯 示 器 | 3 吋 |
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